2025年11月17日〜28日開催 “見えない界面”を非破壊で計測―和周波発生分光（SFG）による界面解析

“見えない界面”を非破壊で計測―和周波発生分光（SFG）による界面解析

本セミナーについて

本セミナーでは、和周波発生分光（SFG: Sum Frequency Generation spectroscopy）を用いた表面・界面の解析技術を、企業の研究開発・製品開発にどう活かせるかに焦点を当てます。

SFGは、接着・樹脂・エレクトロニクス・エネルギーデバイスなど、製品性能や信頼性を左右する「界面」現象を非破壊で直接捉えることができる希少な手法です。従来の表面分析手法では困難だった「埋もれた界面」や「動作環境下の界面挙動」を観測できる点が大きな特長です。

実際の材料・製品を対象とした分析事例を通じ、不具合原因の特定、信頼性の改善、新規機能の創出に役立つSFGの可能性を紹介します。

■和周波発生分光（SFG）

和周波発生分光（SFG）

■他の表面分析手法との比較

分析法	検出感度	分子選択性	非破壊性	オペランド測定の適用
X線光電子分光（XPS）	数 nm	元素	△（真空）	△
飛行時間型二次イオン質量分析（TOF-SIMS）	1〜3 nm	断片	×（破壊）	×
赤外反射吸収分光（IRRAS）	数 nm〜	高（振動）	◎	◎
SFG	表面・界面：分子レベル反転対称性の崩れたバルク	高（振動）	◎	◎

こんな方におすすめ

接着剤・樹脂メーカー R&D 担当者：剥離や密着課題を解決したい方
エレクトロニクス企業技術開発者：高信頼性の界面制御技術を模索中の方
エネルギー企業・電池メーカー技術者：動作環境下の界面挙動を理解し改良したい方
分析・評価部門：製品不良の原因解析を効率化したい方

<キーワード>
接着不良解析、構造材（自動車部材）、電子材料開発（デバイス基板）、バッテリー・エネルギーデバイス、界面解析技術、オペランド測定

■主要ポイント

現場課題の解決につながる界面分析
接着不良、剥離、劣化などの原因を可視化
競争力強化に直結する応用
電子材料・バッテリー・樹脂の性能向上
その場観察（オペランド測定）による実環境解析
温度・電場・動作下での界面挙動を把握
既存手法では見えない情報
分子配向や界面官能基の直接観測
産業への波及効果
製品・技術の化学的エビデンスの確保、新製品開発の加速

お申し込みはコチラから（無料）
※申込み後、当日の案内メールが届かない方は、お手数ですが以下までご連絡ください。
マテリアルDXイベント担当( MDX-eve-ml@aist-solutions.co.jp )

プログラム詳細

本セミナーはオンラインによるオンデマンド配信です。視聴可能期間中であれば、何度でも繰り返しご覧いただけます。

■開催日時

　2025年11月17日(月曜日)10:00 ～ 11月28日(金曜日)23:59

■参加費

　無料

スケジュール（約45分）

題目	内容
イントロダクション	企業における界面問題の実例（剥離・劣化・性能低下）なぜ従来手法では解決が難しいのか
和周波発生分光（SFG）の特徴	他の分析手法との違い企業の課題解決に活きる独自の強み
応用事例の紹介	接着剤界面の反応解析 → 剥離原因の特定ポリマー表面の分子配向解析 → 密着性改善指針エレクトロニクス応用 → 動作下での界面挙動観察
企業での活用シナリオ	新製品開発・信頼性評価・不具合解析の具体例
まとめと展望	今後の産業応用の広がり

スピーカー紹介

国立研究開発法人産業技術総合研究所
材料・化学領域研究企画室企画主幹（兼）
材料基盤研究部門接着・界面研究グループ主任研究員
赤池幸紀
赤池幸紀
2010年に名古屋大学大学院理学研究科物質理学専攻（化学系）博士（理学）取得後、2011年岡山大学大学院自然研究科にて特任助教、2013年理化学研究所及びフンボルト大学ベルリンにてポスドク、東京理科大学理工学部物理学科の助教を務める。2018年に産業技術総合研究所に入所後、ナノ材料研究部門主任研究員を経て、2025年より現職。専門は、分光を用いた有機デバイス関連界面、接着界面などの物性解明、バイオ材料の有機エレクトロニクス応用。

株式会社東京インスツルメンツ
技術部主任
山本貴士
山本貴士
2015年東京理科大学大学院博士号取得
（博士論文：EUVレーザーを用いた時間分解光電子分光装置の開発と、浅い内殻準位を持つ遷移金属化合物への応用）
2015年株式会社ユニソク入社
超高真空極低温SPMに関する技術開発に従事
2019年株式会社東京インスツルメンツ入社
現在に至るまで極低温・超高真空・フェムト秒レーザーを用いた測定システム及び和周波分光システムの技術担当として従事